Produktionskapacitet för kiselkarbid
Form: Klump/pulverform
Kiselkarbidpulver för eldfast
Beskrivning
Beskrivning
Kiselkarbid (SiC) är ett material som har identifierats som en nyckelingrediens i nästa generations kraftenheter på grund av dess överlägsna egenskaper jämfört med andra halvledare. Dess utmärkta termiska stabilitet, höga elektronrörlighet och höga genombrottsspänning gör SiC till ett attraktivt material för användning i kraftelektronik, särskilt i applikationer med hög temperatur och hög effekt.
Enligt en nyligen genomförd marknadsundersökningsrapport förväntas SiC-kraftenheter uppleva en betydande tillväxt i efterfrågan under de närmaste åren, driven av det ökande antagandet av elfordon, förnybara energisystem och behovet av högpresterande kraftelektronik inom olika industriella sektorer.
För att möta den växande efterfrågan på SiC-baserade enheter måste produktionskapaciteten för SiC öka avsevärt och nya produktionsanläggningar måste planeras och byggas. För närvarande uppskattas den globala SiC-produktionskapaciteten till cirka 1 miljon wafers per år, medan den förväntade efterfrågan på SiC-wafers förväntas nå 10 miljoner wafers per år 2025.
Specifikation
| Modell | Komponentprocent | |||
| 60# | Sic | F.C | Fe2O3 | |
| 65# | 60 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 max |
| 70# | 65 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 max |
| 75# | 70 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 max |
| 80# | 75 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 max |
| 85# | 80 min | 3-6 | 3,5 max | |
| 90# | 85 min | 2,5 max | 3,5 max | |
| 95# | 90 min | 1.0max | 1,2 max | |
| 97# | 95 min | 0.6Max | 1,2 max | |
Flera ansträngningar pågår för att öka SiC-produktionskapaciteten, till exempel byggandet av nya SiC-produktionsanläggningar av ledande SiC-tillverkare som Cree och STMicroelectronics. Dessutom investerar nyckelaktörer inom halvledarindustrin i forskning och utveckling för att förbättra tillverkningsprocesser för SiC och få ner kostnaderna för SiC-produktion.
Förutom att öka produktionskapaciteten är det också viktigt att förbättra kvaliteten och konsistensen hos SiC-skivor. Utvecklingen av nya SiC epitaxiella tillväxtteknologier och optimering av befintliga kan bidra till att förbättra kvaliteten på SiC-skivor och öka utbytet. Detta kan bidra till att sänka kostnaderna för SiC-skivor och göra dem mer tillgängliga för ett bredare spektrum av applikationer.
Den växande efterfrågan på SiC-enheter är en möjlighet för globala halvledaraktörer att investera och utöka sin produktionskapacitet. Med fortsatt innovation i SiC-tillverkningsprocesser och ökad SiC-produktionskapacitet är det möjligt att påskynda adoptionen av SiC-baserade enheter och realisera den fulla potentialen hos SiC-teknologin. Framtiden för kraftelektronik är knuten till SiC, och det är absolut nödvändigt att vi ökar våra investeringar i SiC-produktion för att möta framtidens krav.
FAQ
F: Är ditt företag tillverkare eller handelsföretag?
S: Vårt företag är tillverkare och handelsföretag i Anyang City, Henan-provinsen, Kina.
F: Hur betalar jag för min inköpsorder?
A: TT och LC accepteras.
F: Hur kan jag få några prover och hur lång tid tar det?
S: För prov av små kvantiteter är det gratis, men flygfrakten hämtas eller betalar oss kostnaden i förväg, vi använder vanligtvis International Express, och vi skickar den till dig efter mottagandet av din avgift.
F: Har du ett kvalitetskontrollsystem?
S: Vi har kvalitetskontrollsystem för varje steg i processkontroll, och vi har kontrollsystemet från råmaterial till färdiga produkter.
F: Är priset förhandlingsbart?
S: Priset är förhandlingsbart. Det kan ändras enligt din kvantitet eller förpackning. När du gör en förfrågan, vänligen meddela oss vilken mängd du vill ha. Vissa produkter har vi i lager.
Populära Taggar: produktionskapacitet för kiselkarbid
Skicka förfrågan
Du kanske också gillar
